国产99桃花视频_欧美日韩激情午夜_亚洲剧场午夜在线观看_欧美一级特黄网站_日韩国产三级欧美_亚洲Aⅴ无码久久寂寞少妇_国产成人亚洲综合精品_尤物一区二区三区精品_亚洲最新版无码AV_成人午夜黄色一级片

水處理設(shè)備

聯(lián)系我們

反滲透阻垢劑_殺菌劑_緩蝕劑_除垢劑廠家_廣東巴沃夫環(huán)保官網(wǎng)

電 話:0760-85552066

傳 真:0760-85552088
郵 箱:bwf@bawofu.cn

地 址:中山市火炬開發(fā)區(qū)港義路大唐盛視科技產(chǎn)業(yè)園A棟17樓

在線咨詢在線咨詢

超純水設(shè)備

EDI設(shè)備

  • 電去離子Electrodeionization,簡稱EDI,又稱連續(xù)電解除鹽技術(shù),它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體,通過陰、陽離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移,從而達(dá)到水的深度凈化除鹽,并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生,因此EDI制水過程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水。

一、設(shè)備簡介

  電去離子Electrodeionization,簡稱EDI,又稱連續(xù)電解除鹽技術(shù),它科學(xué)地將電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)融為一體,通過陰、陽離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用,在電場的作用下實現(xiàn)水中離子的定向遷移,從而達(dá)到水的深度凈化除鹽,并通過水電解產(chǎn)生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進(jìn)行連續(xù)再生,因此EDI制水過程不需酸、堿化學(xué)藥品再生即可連續(xù)制取高品質(zhì)超純水。

  半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術(shù)分為五個行業(yè)等級,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。

       
二、設(shè)備原理

EDI設(shè)備(圖1)EDI設(shè)備(圖2)



電去離子(EDI)系統(tǒng)主要是在直流電場的作用下,通過隔板的水中電介質(zhì)離子發(fā)生定向移動,利用交換膜對離子的選擇透過作用來對水質(zhì)進(jìn)行提純的一種科學(xué)的水處理技術(shù)。電滲析器的一對電極之間,通常由陰膜,陽膜和隔板(甲、乙)多組交替排列,構(gòu)成濃室和淡室(即陽離子可透過陽膜,陰離子可透過陰膜)。淡室水中陽離子向負(fù)極遷移透過陽膜,被濃室中的陰膜截留;水中陰離子向正極方向遷移陰膜,被濃室中的陽膜截留,這樣通過淡室的水中離子數(shù)逐漸減少,成為淡水,而濃室的水中,由于濃室的陰陽離子不斷涌進(jìn),電介質(zhì)離子濃度不斷升高,而成為濃水,從而達(dá)到淡化、提純、濃縮或精制的目的。

   
三、工藝流程

      1、如圖片“工藝流程圖---EDI“

EDI設(shè)備(圖3)

四、技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)水量

根據(jù)需求訂制(0.5-300噸/時)

原水源

自來水或地下水(電導(dǎo)率小于400us/cm)

產(chǎn)水水質(zhì)

電導(dǎo)率小于0.056us/cm(電阻率≥18MΩ/cm)

設(shè)備功率

5KW-800KW

運行狀態(tài)

自動運行、定時反洗

反洗頻率

隨進(jìn)水水質(zhì)而變化(1~3天)

化學(xué)清洗

隨膜材質(zhì)及膜污染情況而定

產(chǎn)品特點

人機對話、運行穩(wěn)定、水質(zhì)可靠

  

進(jìn)水要求:

  以下是保證 EDI 正常運行的最低條件。為了使系統(tǒng)運行效果更佳,系統(tǒng)設(shè)計時應(yīng)適當(dāng)提高這些條件。

  ★給水:RO 純水,一般水的電導(dǎo)率為 4-30us/cm。

  ★PH:5.0-8.0(在此 PH 條件下,水硬度不能太高)

  ★溫度:5-35℃

  ★進(jìn)水壓力:最大為 4kg/cm2(60psi),最小為 1.5kg/cm2(25psi)。

     注意:組件壓力損失取決于流量和水溫。

  

EDI 組件標(biāo)準(zhǔn)配置:

  ★出水壓力:濃水和電極水的出口壓力必須低于產(chǎn)品的出口壓力。

  ★硬度(以 CaCO3 計):最大為 1.0ppm,建議采用 0.1ppm。

  ★有機物:最大為 0.05ppm (TOC)。

  ★氧化劑:最大為 0.05ppm(CL2),0.02ppm(03)建議兩者都沒有。

  ★變價金屬:最大為 0.01 ppm (Fe)。

  ★二氧化硅:50-150ppb。

  ★二氧化碳 CO2 的總量:二氧化碳含量和 PH 值將明顯影響產(chǎn)品水電阻率。在大于10ppm 時,一般應(yīng)在 EDI 設(shè)備前安裝脫氣裝置。 

 

五、設(shè)備優(yōu)點

  1、占地空間小,省略了混床和再生裝置。

  2、產(chǎn)水連續(xù)穩(wěn)定,出水質(zhì)量高,而混床在樹脂臨近失效時水質(zhì)會變差。

  3、運行費用低,再生只耗電,不用酸堿,節(jié)省材料費用。

  4、環(huán)保效益顯著,增加了操作的安全性。

  5、不需要酸堿化學(xué)試劑來再生(綠色環(huán)保)。

  6、與同類進(jìn)口產(chǎn)品比,能耗下降30%左右,節(jié)約運行費用。

  7、EDI在線再生,無需加鹽系統(tǒng)。

  8、出水水質(zhì)穩(wěn)定一致。

  9、容易實現(xiàn)整體式的膜塊排列。

  10、重量輕,結(jié)構(gòu)緊湊。

  

六、應(yīng)用領(lǐng)域

  1、電廠化學(xué)水處理;

  2、電子、半導(dǎo)體、精密機械行業(yè)超純水; 

  3、制藥工業(yè)工藝用水; 

  4、精細(xì)化工、精尖學(xué)科用水; 

  5、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水; 

  6、半導(dǎo)體材料、晶元材料生產(chǎn)、加工、清洗; 

  7、其他行業(yè)所需的超純水制備。

 

 

 

友情鏈接: 我愛導(dǎo)航 孫悟空 三體網(wǎng)址大全 我要樂網(wǎng)址導(dǎo)航 商娛網(wǎng) 網(wǎng)址大全 網(wǎng)站目錄 螞蟻目錄 點我分類目錄 網(wǎng)站目錄大全

Copyright@ 2024 廣東巴沃夫環(huán)??萍加邢薰?All rights reserved. 備案號: 粵ICP備18038743號-2 技術(shù)支持:天鯤互聯(lián)